特長 | 1 | 削りすぎを防止できる |
微細な特定部位の露出を行う際に、最小1μm単位で研磨量の設定が可能です。
例えば、ボンディング配列の観察は配線間隔が狭く研磨精度が求められるため困難です。高精度な研磨技術で配線の配列を鮮明にし、容易に観察および解析することができます。
▲ ボンディング配列の明確化
特長 | 2 | 最小0.01度で角度補正ができる |
1軸傾斜ホルダでBGA のバンプやパッケージ内部のワイヤボンディングの配列出し、2 軸傾斜アジャスタで平面の修正やディレイヤリングが可能です。
▲1軸傾斜ホルダ

▲2軸傾斜アジャスタ
特長 | 3 | 誰でも同じ仕上がりを再現できる |
手研磨の感覚で荷重・削り量・回転数・移動速度・パターンなど、熟練者の技術を細かく条件設定して再現できます。
最大1,500通りの条件を設定することができます。

▲ISPP-3000

▲ISPP-3000のメモリ保存画面

▲ISPP-3000のメモリ呼び出し画面
特長 | 4 | 低負荷での研磨ができる |
天秤の原理を応用したウェイトキャンセラ(特許技術)の機能により、研磨シートの凹凸に追従しながら正確に一定の負荷をかけ続けることができます。
荷重を逃すことができるので、凹凸があっても試料を傷つけることはありません。
例えば、半導体や電子部品には、ナノメートルから数ミクロンのサイズで形成された微細構造が多く存在します。
過大な荷重や振動による損傷を抑えた研磨方法を活用することで、接合部や薄膜層を破壊することなく微小な部位を正確に露出できます。
▲ICのボンディング
▲プリント基板のスルーホール
▲BGA ボンディング配列出し
▲BGA ハンダボール
特長 | 5 | 包埋工程なしで研磨ができる |
試料をホルダで直接保持するので包埋を必要としません。
試料の形状や目的に応じて選べる様々な試料ホルダを用意しており、適切なホルダが無かった場合でもカスタマイズして対応できます。
試料を直接保持して断面方向、試料台を使って平面方向に使用します。
試料の形状によって
保持の方法を変えることができます。

小さい試料は
1/2インチ試料台に貼り付けます。

大きい試料は
1インチ試料台に貼り付けます。
板状の試料に使用します。

板状の試料に使用します。

小さな試料や薄い試料に使用します。

イオンミリング・クロスセクションポリッシャ専用の試料ホルダを
ご用意しています。
・同時に最大5つまで試料作製が可能
・試料台サイズ : Φ8mm

ISPP-1000 | ||
寸法 | 290×260×390mm (W×D×H) | |
ターンテーブル径 | Φ110 | |
重量 | 約10kg | |
ターンテーブル回転数 | 100~500rpm (9段階、50rpm刻み) | |
顕微鏡部 | 光学倍率 40~200倍 (レンズ交換による) | |
電源 | AC100~240V 50/60Hz 65Wmax | |
排水口適合ホース | 内径Φ12 | |
▲オプションの小型給水システム付
ISPP-3000 | ||
寸法 | 約630×690×470mm (W×D×H) | |
ターンテーブル径 | Φ230 | |
重量 | 約55kg | |
ターンテーブル回転数 | 12.5~300rpm (9段階) | |
電源 | AC100~240V ±10V 50/60Hz | |
排水口適合ホース | 内径Φ12 | |

山善TFS支社は、半導体業界向け製品も取り扱っております。
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